（大纪元专题部记者吴欢心综合报导）受美国技术制裁的中共，对韩国的技术偷窃愈演愈烈。在金钱的诱惑下，韩国甚至出现亲兄弟俩“前仆后继”以身试法向中共泄露技术的事件。在一片要求加重处罚技术泄露罪犯的呼声中，韩国最近提高了处罚力度。
弟弟因泄露技术被拘留 哥哥接手继续犯罪
最近将韩国半导体湿式清洗设备技术泄露给中共的韩国某半导体清洗设备企业的9名成员被移交审判。此次技术泄露的主犯，过去亲弟弟因同样的罪行被拘留，此后哥哥代替弟弟经营公司，再次犯下了罪行。
韩国检方1月29日拘留起诉了韩国半导体清洗设备A公司的实际营运者B某和中国营业总管、经营支援组长、设计负责人4人，他们涉嫌将韩国最大的半导体设备公司Semes的半导体清洗设备制造技术泄露给中国企业。同时还拘留起诉了参与犯罪的A公司5名职员。他们涉嫌违反韩国《防止不正当竞争法》《产业技术保护法》。
检方透露，去年5月，他们偷偷将窃取Semes的技术后制作的半导体清洗设备出口给了中国C公司。同年9月，应C公司的要求，他们设计了与Semes相同的清洗设备，先后8次以拆开的方式向中国出口该设备零部件。如果将零部件拆开出口，就不会留下设备出口记录。他们利用了这一点。
C公司收到这种拆开的零部件后，在中国组装制作了清洗设备。该清洗设备是精密去除半导体制造工程中芯片表面产生的污染物质的设备，是Semes在世界上首次开发并成功批量生产，是用于20纳米以下存储器半导体制作的国家核心技术。
B某等人因此获得了约34亿韩元（约255万美元）收入。
不仅如此，B某等人还与C公司共谋，准备将Semes的清洁装备技术全部转让过去。
C公司提议，如果B某等人能够在中国设立工厂，将为他们投资。他们接受该提案，在中国设立了公司及办公室。
在此过程中，由于犯罪被揭发，事态没有发展到在中国建立“复制工厂”的地步。
B某是因同样的罪行被拘留并正在接受审判的A公司代表D某的亲哥哥。
Semes研究员出身的D某因2起技术泄露事件于去年的年初被拘留起诉。
他涉嫌伙同Semes前职员委托Semes合作企业或在Semes退休时不返还相关信息的方式，以不正当的方法获得了清洗设备技术信息和设计图纸。之后，他用窃取的资料制造了半导体湿式清洗设备，并向C公司出口。
D某在一审中被判处9年有期徒刑，在最近的二审中，刑量被增加到了10年。
检方推算，此次泄露的技术价值至少“数千亿韩元（约数亿美元）”。检方相关人士表示，Semes此前投入该技术的金额约为2188亿韩元（约1.6亿美元），技术泄露导致竞争力下降，即使订单减少1%，每年也会造成“约1万亿韩元（约7.5亿美元）”的损失。
就B某在弟弟D某已经被拘留的情况下，却仍然参与犯罪的原因，据韩媒透露，是因为中共的巨额金钱诱惑。
该媒体报导，只要韩国公司答应泄露一次技术，中国企业就会提出越来越无理的要求。最初，中国企业通过朝鲜族中介人接触D某，得到了制作Semes清洁设备的核心图纸，并获得了清洁设备的供货。
中国企业即使后来知道D某被拘留起诉，以及在一审中被判有期徒刑的事实，也持续要求D某的公司出口Semes清洁设备，甚至干脆提议把工厂全部复制过来。
在巨额金钱的诱惑下，B某与职员们参与了犯罪。参与犯罪的职员中，还有和D某一起被起诉、被判缓刑的人。
韩国海外技术盗窃案九成涉中共 法院处罚不痛不痒
韩国技术泄露到海外的事件频繁发生，绝大多数流向中国。根据韩国法务部《强化技术泄露犯罪量刑标准》的资料显示，韩国产业技术泄露到海外的案件在2017年至2022年6年间共达117件，其中36项为国家关键技术。根据韩国司法部的数据，泄露到海外的所有案例中，92.3%涉及中共的技术盗窃。
韩国技术屡屡泄露给中共，原因除了与中共以高额金钱诱惑有关外，韩国法院处罚过轻也是一个主要原因。
据韩国国民力量党议员洪硕晙（Hong Seokjun）从产业通商资源部收到的资料和大法院司法年鉴显示，在2015年至2022年法院对违反《产业技术保护法》做出一审判决的114件中，判处有期徒刑的案件只有12件，而缓期执行有40件，罚款有11件。实刑宣判比重仅占一成。
韩国国家情报院产业机密保护中心一名调查官（因工作特性而匿名）近日向韩媒《东亚日报》指出期间韩国法院在量刑过轻方面的细节。
他透露，泄露技术的嫌疑人“写了检讨书或递交请求查明书后给予减刑”的情况很多。技术一旦泄露就结束了，但此前还“以技术没有商用化为由，降低了刑罚”。
他还透露，法院很少宣判实刑，而且即使判实刑，平均宣判量也只有1年2个月。
韩国法院推进提高处罚水平
韩国法院对技术泄露不痛不痒的处罚多年来备受产业界和舆论指责，韩国产业通商资源部部长方文圭（Bang Moon-kyu）2023年年末也曾指出，对现行技术泄露犯罪的量刑标准与法定刑相比“低得离谱”。即使数十兆韩元（约数百亿美元）的技术泄露到海外，也会因为是初犯或仅仅反省而被判缓期执行或大幅减刑，这种情况不应该存在。
在要求提高量刑的呼声中，韩国最高法院量刑委员会1月中旬大幅提高了建议量刑。
量刑委员会建议，新设此前没有特别量刑标准的国家核心技术等国外侵害条款，最高判处18年有期徒刑。
量刑委员会还新设了规定，如果窃取国家核心技术和产业技术，即使是初犯也不会酌情考虑，并限制缓期执行。
另外，考虑到泄露对象是容易复制的数字设计图等，即使泄露尝试失败，也只有在受害物品被返还，并完全废弃的情况下，才能将其作为减轻刑罚的因素。
考虑到泄露技术的金钱价值很难客观计算的特性，加重处罚对象中还包括“侵害投入相当金额研究开发费的专利权、商业秘密、技术等的情况”。在“对保密有特别义务的人”的范围中，明确包括客户和派遣职员等，在技术泄露时加重处罚。
此次修订案将通过听证会等程序，于3月末确定。
此外，韩国专利厅近日表示，为防止技术掠夺，2024年1月末，包含防止技术窃取的各种对策的《防止不正当竞争及商业秘密保护相关法律》修订案在国会全体会议上获得通过。
该法案为了防止技术泄露，加强了民事上的救济，将目前引入《不正当竞争防止法》的惩罚性损害赔偿从3倍强化到5倍。这是为了提高对技术泄露的警惕，确保受害赔偿实效性的措施。
另外，为了抑制法人有组织地侵犯商业秘密的行为，法人的罚款刑最多将加强到现行规定的3倍。韩国专利厅解释说，这是考虑到侵犯商业秘密的犯罪中，法人的组织性犯罪相对较多。
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